Transient-enhanced Si diffusion on natural-oxide-covered Si(001) nano-structures during vacuum annealing

Friedrich Schäffler; Herbert Lichtenberger; Christoph Schelling; S. Senz; Michael Mühlberger; Wolfgang Schwinger

doi:10.1016/j.physe.2004.03.015

Transient-enhanced Si diffusion on natural-oxide-covered Si(001) nano-structures during vacuum annealing

Friedrich Schäffler
, Herbert Lichtenberger
, Christoph Schelling
, S. Senz
, Michael Mühlberger
, Wolfgang Schwinger

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Konferenzartikel › Begutachtung

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	442-448
Seitenumfang	7
Fachzeitschrift	Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures
Volume	23
Ausgabenummer	3-4 SPEC. ISS.
DOIs	https://doi.org/10.1016/j.physe.2004.03.015
Publikationsstatus	Veröffentlicht - Juli 2004

Wissenschaftszweige

103 Physik, Astronomie
103009 Festkörperphysik
103011 Halbleiterphysik
103017 Magnetismus
103018 Materialphysik
103040 Photonik
202032 Photovoltaik
210006 Nanotechnologie

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10.1016/j.physe.2004.03.015

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Transient-enhanced Si diffusion on natural-oxide-covered Si(001) nano-structures during vacuum annealing. / Schäffler, Friedrich; Lichtenberger, Herbert; Schelling, Christoph et al.
in: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures, Volume 23, Nr. 3-4 SPEC. ISS., 07.2004, S. 442-448.

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Konferenzartikel › Begutachtung

TY - JOUR

T1 - Transient-enhanced Si diffusion on natural-oxide-covered Si(001) nano-structures during vacuum annealing

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M3 - Conference article

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JO - Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures

JF - Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures

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