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Modulation of the high mobility two-dimensional electrons in Si/SiGe using atomic-layer-deposited gate dielectric

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer142103
Seiten (von - bis)142103
Seitenumfang4
FachzeitschriftApplied Physics Letters
Volume87
Ausgabenummer14
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 03 Okt. 2005

Wissenschaftszweige

  • 103 Physik, Astronomie
  • 103009 Festkörperphysik
  • 103011 Halbleiterphysik
  • 103017 Magnetismus
  • 103018 Materialphysik
  • 103040 Photonik
  • 202032 Photovoltaik
  • 210006 Nanotechnologie

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