CH4/H2 plasma etching of IV-VI semiconductor nanostructurs

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	L11-L14
Fachzeitschrift	Semiconductor Science and Technology
Ausgabenummer	14
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 1999

UN SDGs

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@article{8c4bb729ad0e497e8d8944958de86325,

title = "CH4/H2 plasma etching of IV-VI semiconductor nanostructurs",

author = "Thomas Schwarzl and Heiss, \{Wolfgang Johann\} and Gudrun Kocher-Oberlehner and Gunther Springholz",

year = "1999",

language = "English",

pages = "L11--L14",

journal = "Semiconductor Science and Technology",

issn = "0268-1242",

publisher = "IOP Publishing",

number = "14",

}