CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	L11-L14
Seitenumfang	4
Fachzeitschrift	Semiconductor Science and Technology
Volume	14
Ausgabenummer	2
DOIs	https://doi.org/10.1088/0268-1242/14/2/003
Publikationsstatus	Veröffentlicht - Feb. 1999

Wissenschaftszweige

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TY - JOUR

T1 - CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures

AU - Schwarzl, Thomas

AU - Heiß, Wolfgang Johann

AU - Kocher-Oberlehner, Gudrun

AU - Springholz, Gunther

PY - 1999/2

Y1 - 1999/2

UR - https://www.scopus.com/pages/publications/0033076373

U2 - 10.1088/0268-1242/14/2/003

DO - 10.1088/0268-1242/14/2/003

M3 - Article

VL - 14

SP - L11-L14

JO - Semiconductor Science and Technology

JF - Semiconductor Science and Technology

IS - 2

ER -