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A novel method for the study of strain relaxation in lattice-mismatched heteroepitaxy: ultra-high vacuum scanning tunneling microscopy combined with in situ reflection high energy electron diffraction

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)1190-1195
Seitenumfang6
FachzeitschriftJournal of Crystal Growth
Volume150
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1995

Wissenschaftszweige

  • 103 Physik, Astronomie
  • 103009 Festkörperphysik
  • 103011 Halbleiterphysik
  • 103017 Magnetismus
  • 103018 Materialphysik
  • 103040 Photonik
  • 202032 Photovoltaik
  • 210006 Nanotechnologie

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